深圳納加霍里科技專業代理銷售日本MEG對齊單元X9113-M 產品特點如下：

日本MEG對齊單元X9113-M 是一款高精度光學對齊單元（Alignment Unit），主要用于半導體設備、液晶面板制造、精密測量系統等工業領域，確保光學元件或機械部件的精準定位與校準。

小型緩沖類型主體□30mm濃縮緩沖必要的功能，緊湊節省空間，高速運行，備有帶馬達型號、外部驅動型號，此外，還可以選擇主體安裝方式和鰭片形狀等。

備有本體安裝部形狀、指狀物形狀、驅動方式等多種種類。

小型類型的基本機構原封不動，實體從上側用M3螺絲能安裝的模型，小型A型還備有可實現閉環控制的α STEP馬達型號。

在狹小空間也能發揮高精度定位的定位單元和開發的小型對準單元，控制身體寬度的苦心設計，即使在小沖程輸送的狹小空間內也能實現精確的工件定位。

小型指狀物配置于機身頂部，本體安裝，利用本體背面的M2抽頭。

小型A型I指狀物配置在機身上面，主體安裝從主體上面用M3螺絲擰緊，還準備了實現閉環的STEP 。

小型AP型I被配置在實體側面，實體安裝從實體上面用M3螺絲擰緊，還準備了可實現閉環的 STEP馬達。

核心特點

1.高精度調整

采用精密機械結構，支持微米級（μm）甚至納米級（nm）的位置調整，適用于對光路或機械組件的高靈敏度對齊需求。

2.多自由度調節

通常配備XYZ三軸線性平移臺，部分型號可能集成旋轉（θx/θy/θz）調節功能，滿足復雜對齊場景。

3.穩定性與剛性

材料采用高強度鋁合金或不銹鋼，結構設計優化，確保長時間使用無漂移，抗振動干擾。

4.兼容性

可適配多種光學元件（透鏡、反射鏡、激光器等）或傳感器，接口設計靈活，便于集成到現有系統中。

5.環境適應性

部分型號支持真空或潔凈室環境，適用于半導體和FPD（平板顯示）制造工藝。

典型應用場景

半導體設備：光刻機、檢測設備的鏡頭校準。

激光加工：激光束路徑的精確對準。

光學實驗：科研級光學平臺的組件調整。

自動化檢測：CCD相機、傳感器的位置校準。

選型與規格

行程范圍：XYZ軸典型行程±5mm~±10mm（可定制）。

分辨率：手動調節可達0.1μm，電動驅動型號精度更高。

負載能力：約1~5kg（具體取決于設計）。

驅動方式：手動微調旋鈕、電動馬達（可選）。

規格

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